Apr, 2023

三维纳米级集成电路成像的深度自监督 ptycho-laminography 加速技术

TL;DR本研究利用物理规范化深度自监督学习结构,加速针对集成电路的 ptycho-laminographic 重建,仅需采集 16 倍少的角度样本和 4.67 倍更快的计算,且重建品质优于完整采集和无学习的密采集重建,从而实现了对纳米结构的三维检查,并为安全和可靠性保障做出了贡献。