Jun, 2023

极低比特率图像压缩下的更多掩蔽

TL;DR本文提出了一种新颖的双自适应掩膜 (DA-Mask) 方法,该方法结合了贴片结构和纹理分布,在极低比特率下有效压缩图像。同时,该研究还结合预先训练的掩膜自编码器 (MAE) 和 DA-Mask 以及 LIC 网络提出了一种基于贴片图像建模 (MIM) 的掩膜压缩模型 (MCM) ,该方法在 R-D 性能、可视质量和下游应用方面优于最新的同类研究。