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反向曝光实验物理驱动的深度神经水平集掩膜优化
基于水平集的逆向光刻技术在深度学习框架内实现掩膜优化,显著提高印刷性能,减少计算时间,为逆向光刻领域提供了一种高效的解决方案。
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