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sr-assisted branch
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面向基于 SEMI-SuperYOLO-NAS 的高数值孔径 EUVL 的半导体缺陷检测的改进
该研究提出了一个可提高成像工具缺陷检测吞吐量的 ADCD 框架,该框架通过在低分辨率图像中检测纳米级缺陷实例来解决高深度聚焦挑战,并通过 SR 辅助分支实现不同分辨率图像上的缺陷检测推断,无需明确训练。
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3 months ago
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