Dec, 2011

Tevatron 和 LHC 的喷注次级结构:新结果、新工具、新基准

TL;DR本文回顾了 Tevatron 和 LHC 中喷注亚结构的最新理论进展和实验结果,阐述了计算和模拟工具的现状和前景,重点讨论了称为 “顶标记器” 的变量和修整方法组合的一组基准比较,并尝试收集、协调和发布这些技术的软件实现,以促进进一步的探索。