CVPRDec, 2020

通过渐进式精化网络进行 Mask 引导背景抠像

TL;DR我们提出了一种名为 Mask Guided Matting 的稳健抠图框架,它以一般粗略掩膜为指导,利用 PRN 网络设计逐步优化不确定区域,同时通过一系列指导掩膜扰动操作增强其对外部指导的稳健性。我们重新审视了前景色预测问题,提出了一个简单的改进方案以解决数据集问题。在真实和合成基准测试中,我们证明了 MG Matting 利用各种类型的指导输入实现了最先进的性能。