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guidance mask perturbation
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CVPR
通过渐进式精化网络进行 Mask 引导背景抠像
我们提出了一种名为 Mask Guided Matting 的稳健抠图框架,它以一般粗略掩膜为指导,利用 PRN 网络设计逐步优化不确定区域,同时通过一系列指导掩膜扰动操作增强其对外部指导的稳健性。我们重新审视了前景色预测问题,提出了一个简
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4 years ago
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