Jan, 2024

基于张量的半导体制造过程控制和监控技术在不稳定干扰下的应用

TL;DR该论文提出了一种新颖的高维基于图像的覆盖误差处理控制与监测方法,利用有限的控制配方来减少覆盖误差。通过构建高维过程模型并提出不同的张量与向量回归算法来估计模型中的参数,减轻维度诅咒。基于张量参数的估计,设计了指数加权移动平均(EWMA)张量数据控制器,其稳定性经过理论保证。为了防止无法控制的高维扰动的显著漂移,检测控制残差。通过大量的仿真和真实案例研究,评估了参数估计算法和张量空间中 EWMA 控制器的性能。与现有的基于图像的反馈控制器相比,我们的方法在扰动不稳定时表现出明显的优势。