May, 2024

基于贝叶斯优化的溅射沉积过程中稳定性性能的研究

TL;DR我们引入了一种贝叶斯优化方法来指导钼薄膜的溅射沉积,旨在实现所需的残余应力和片电阻,同时最小化沉积过程中的随机波动的影响。