Aug, 2024

半导体制造的智能光学邻近校正工程师助手

TL;DR本研究解决了半导体制造中光学邻近校正(OPC)优化问题,该问题通常需要经验丰富的工程师全职操作。提出了一种基于强化学习的OPC配方搜索和定制多模态代理系统,极大地提高了配方構建的效率,具有重要的应用潜力。研究结果显示,该方法能够在多种芯片设计中有效构建OPC配方。