Nov, 2022

基于深度学习的扫描电子显微镜图像缺陷分类和检测:一种 Mask R-CNN 方法

TL;DR本研究展示了将深度学习算法 Mask-RCNN 应用于半导体缺陷检测领域,通过改进缺陷实例分割技术,成功地检测和分割在半导体制造过程中不同类型的随机缺陷图案,并且可以精确计算缺陷表面积和数量。